VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器

簡要描述：VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器
聯(lián)系張經(jīng)理：I8721868549

產(chǎn)品型號：PLD-T
廠商性質：代理商
更新時間：2024-09-11
訪問量：12

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VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器

英國VacTechniche,真空鍍膜系統(tǒng),濺射鍍膜機,PLD-T 脈沖激光器，沉積和熱蒸發(fā)器

PLD-T 脈沖激光器沉積和熱蒸發(fā)器

SEM/TEM 樣品制備 Vac Techniche

多功能脈沖激光沉積和熱蒸發(fā)器系統(tǒng) – PLD-T 是一種高真空薄膜沉積系統(tǒng)，可通過脈沖激光沉積和熱蒸發(fā)技術沉積不同的材料。它可以將復雜材料和晶體結構沉積到基板上，只需很少的設置。

脈沖激光沉積技術可實現(xiàn)高效的非熱燒蝕，并保持靶材的化學計量。通過應用這種方法，它可以沉積氮化物、氧化物、超晶格、聚合物和復合材料等材料。

PLD-T
熱蒸發(fā)源
（舟/籃/盤管）

脈沖激光沉積系統(tǒng)可配備三個獨立的熱阻熱蒸發(fā)源。蒸發(fā)源支架的良好設計不會使污染物從源材料轉移到其他材料。源架的長度可在 5~10 cm 范圍內調節(jié)，滿足客戶要求。

DCT-Desktop 碳素涂布機

轉速可調的目標機械手
3 個熱源和特殊的饋入件
用于實時厚度測量的石英晶體監(jiān)測系統(tǒng)（精度為 1 nm）
直觀的觸摸屏，用于控制涂層過程和快速數(shù)據(jù)輸入
等離子清洗
用戶友好型軟件，可通過網(wǎng)絡更新
配備旋轉樣品架
配備電子快門
配備機動船選擇
500 °C 基板加熱器
兩年保修

VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器

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VacTechniche真空鍍膜系統(tǒng) 沉積和熱蒸發(fā)器

PLD-T 脈沖激光器沉積和熱蒸發(fā)器

多功能脈沖激光沉積和熱蒸發(fā)器系統(tǒng) – PLD-T 是一種高真空薄膜沉積系統(tǒng)，可通過脈沖激光沉積和熱蒸發(fā)技術沉積不同的材料。它可以將復雜材料和晶體結構沉積到基板上，只需很少的設置。

脈沖激光沉積技術可實現(xiàn)高效的非熱燒蝕，并保持靶材的化學計量。通過應用這種方法，它可以沉積氮化物、氧化物、超晶格、聚合物和復合材料等材料。

PLD-T熱蒸發(fā)源（舟/籃/盤管）

DCT-Desktop 碳素涂布機

轉速可調的目標機械手

3 個熱源和特殊的饋入件

用于實時厚度測量的石英晶體監(jiān)測系統(tǒng)（精度為 1 nm）

直觀的觸摸屏，用于控制涂層過程和快速數(shù)據(jù)輸入

等離子清洗

用戶友好型軟件，可通過網(wǎng)絡更新

配備旋轉樣品架

配備電子快門

配備機動船選擇

500 °C 基板加熱器

兩年保修

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多功能脈沖激光沉積和熱蒸發(fā)器系統(tǒng) – PLD-T 是一種高真空薄膜沉積系統(tǒng)，可通過脈沖激光沉積和熱蒸發(fā)技術沉積不同的材料。它可以將復雜材料和晶體結構沉積到基板上，只需很少的設置。

脈沖激光沉積技術可實現(xiàn)高效的非熱燒蝕，并保持靶材的化學計量。通過應用這種方法，它可以沉積氮化物、氧化物、超晶格、聚合物和復合材料等材料。

PLD-T
熱蒸發(fā)源
（舟/籃/盤管）

直觀的觸摸屏，用于控制涂層過程和快速數(shù)據(jù)輸入

用戶友好型軟件，可通過網(wǎng)絡更新