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    瑞士IDONUS 離子注入表面處理系統

    簡(jiǎn)要描述:關(guān)于瑞士IDONUS 離子注入表面處理系統
    瑞士idonus是一家專(zhuān)注于微型工程行業(yè)專(zhuān)業(yè)設備設計和制造的微技術(shù)公司。核心競爭力有:MEMS設備(MicroElectroMechanical Systems)、離子注入 機器視覺(jué)和光學(xué)解決方案、光伏設備、工程服務(wù)和原型或小批量生產(chǎn)

    • 產(chǎn)品型號:
    • 廠(chǎng)商性質(zhì):代理商
    • 更新時(shí)間:2023-12-07
    • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:154
    產(chǎn)品分類(lèi)PRODUCT

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    瑞士IDONUS 離子注入表面處理系統


    關(guān)于瑞士IDONUS 離子注入表面處理系統

    瑞士idonus是一家專(zhuān)注于微型工程行業(yè)專(zhuān)業(yè)設備設計和制造的微技術(shù)公司。核心競爭力有:MEMS設備(MicroElectroMechanical Systems)、離子注入 機器視覺(jué)和光學(xué)解決方案、光伏設備、工程服務(wù)和原型或小批量生產(chǎn)


    產(chǎn)品描述

    VPE由反應室和蓋子組成。加熱元件集成在蓋子中。它控制要蝕刻的基板的溫度。晶圓夾持可以通過(guò)兩種方式實(shí)現:晶圓可以通過(guò)使用夾緊環(huán)進(jìn)行機械夾緊。擰緊是從設備的背面完成的,該背面從不與 HF 蒸汽接觸。3 個(gè)螺母易于戴防護手套處理。另一種選擇是靜電夾緊。單個(gè)芯片(長(cháng)度超過(guò) 10 毫米)和晶圓可以?shī)A在加熱元件上。晶圓的背面受到保護,不會(huì )被蝕刻。

    液態(tài)HF被填充到反應室中。反應室用蓋子封閉。HF蒸氣在室溫下產(chǎn)生,蝕刻過(guò)程自發(fā)開(kāi)始。蝕刻速率由晶圓溫度控制,晶圓溫度可在 35°C 至 60°C 之間調節。 處理后,酸可以?xún)Υ嬖趦σ汗拗?,以便在可密封的容器中重復使用?br _istranslated="1" style="box-sizing: border-box;"/>液體輸送只需用手柄降低連通儲液罐即可完成。由于重力作用,酸流入儲層,可以通過(guò)兩個(gè)閥門(mén)關(guān)閉。通過(guò)打開(kāi)閥門(mén)并抬起手柄來(lái)重新填充反應室。酸流入反應室。酸可以重新用于多次蝕刻,直到必須更換。
    VPE系統占地面積小,可以很容易地集成到現有的流箱中。


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