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簡(jiǎn)要描述:NONSEQUITUR 雙等離子發(fā)射器離子槍離子源 氣相離子源ION GUNS MODEL 1407 氣相源HE, NE, AR, KR, XE 束斑可調節
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NONSEQUITUR 雙等離子發(fā)射器離子槍離子源 氣相離子源ION GUNS MODEL 1407 氣相源HE, NE, AR, KR, XE 束斑可調節
NONSEQUITUR 雙等離子發(fā)射器離子槍離子源 設計特點(diǎn)
緊湊型離子源,雙等離子發(fā)射器
離子源(英文名稱(chēng):Ion source)是使中性原子或分子電離,并從中引出離子束流的裝置。它是各種類(lèi)型的離子加速器、質(zhì)譜儀、電磁同位素分離器、離子注入機、離子束刻蝕裝置、離子推進(jìn)器以及受控聚變裝置中的中性束注入器等設備的部件。
氣體放電、電子束對氣體原子(或分子)的碰撞,帶電粒子束使工作物質(zhì)濺射以及表面電離過(guò)程都能產(chǎn)生離子,并被引出成束。根據不同的使用條件和用途,已研制出多種類(lèi)型的離子源。使用較廣泛的有弧放電離子源、PIG離子源、雙等離子體離子源和雙彭源這些源都是以氣體放電過(guò)程為基礎的,常被籠統地稱(chēng)為弧源。高頻離子源則是由氣體中的高頻放電來(lái)產(chǎn)生離子的,也有廣泛的用途。新型重離子源的出現,使重離子的電荷態(tài)顯著(zhù)提高,其中較成熟的有電子回旋共振離子源(ECR)和電子束離子源(EBIS)。負離子源性能較好的有轉荷型和濺射型兩種。在一定條件下,基于氣體放電過(guò)程的各種離子源,都能提供一定的負離子束流。
離子源是一門(mén)具有廣泛應用領(lǐng)域的學(xué)科,在許多基礎研究領(lǐng)域如原子物理、等離子化學(xué)、核物理等研究中,離子源都是十分重要的設備。
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