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    LK-TECHNOLOGIES 低能電子衍射儀(LEED)

    簡(jiǎn)要描述:LK-TECHNOLOGIES 低能電子衍射儀(LEED)-RVL2000 的精密反向LEED低能電子衍射儀光學(xué)元件采用所有UHV結構,無(wú)需使用玻璃纖維或聚合物涂層線(xiàn)束。提供完整系列的型號和選件,包括低電流(nA,pA)MCP型號。

    • 產(chǎn)品型號:RVL2000
    • 廠(chǎng)商性質(zhì):代理商
    • 更新時(shí)間:2023-11-15
    • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:318

    詳細介紹

    品牌其他品牌應用領(lǐng)域化工,能源,電子,電氣,綜合

    LK-TECHNOLOGIES 低能電子衍射儀(LEED)-RVL2000


    自1998年以來(lái),LK一直在全球范圍內提供*LEED低能電子衍射儀系統。


    圖片2.png


    低能電子行射(LEED)儀是一種基本的表面儀器。它是分析表面結構的有效工具。它不僅能夠研究清潔的單晶(金屬、半導體及絕緣體)的表面結構,還能研究氣體吸附的結構。圖1是它的工作原理圖。在超高真空條件下,低能電子槍發(fā)射的電子束垂直打到樣品上,被樣品表面上晶體點(diǎn)陣反向散射,在一定的條件下,背散射的彈性電子形成許多行射場(chǎng)分析器(RFA)拒斥非彈性電子,只允許行射束通過(guò)并在熒光屏上形成許多光斑。


    圖片1.png


    LK-TECHNOLOGIES 低能電子衍射儀(LEED)RVL2000低能電子衍射儀(LEED)的精密反向LEED低能電子衍射儀光學(xué)元件采用所有UHV結構,無(wú)需使用玻璃纖維或聚合物涂層線(xiàn)束。提供完整系列的型號和選件,包括低電流(nA,pA)MCP型號。所有光學(xué)器件均采用4網(wǎng)格結構,以實(shí)現與俄歇電子能譜AES連用


    products-leed-1.jpg


    采用4格鎢光學(xué)元件的精密結構

    微型1.59厘米直徑電子槍

    103度可用視角

    0.5%的能量分辨率

    提供可伸縮光學(xué)元件(標準2英寸和最大4英寸縮回)

    安裝法蘭具有整體視口和電氣穿通裝置

    與UHV兼容(不使用聚合物涂層或玻璃纖維絕緣線(xiàn))

    低噪音,高性能的俄歇電子設備,帶有集成鎖定放大器

    MCP版本的pA和nA電流水平

    全系列選項包括低調快門(mén),CCD攝像頭和軟件,6英寸和8英寸外徑法蘭型號


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